1. Phase-space dynamics of particles
پدیدآورنده: Lichtenberg, Allan J.
کتابخانه: كتابخانه مركزی دانشگاه صنعتی شریف (تهران)
موضوع: ، Particles )Nuclear physics(,، Phase space )Statistical physics(
رده :
QC
721
.
L67
2. Phase-space dynamics of particles
پدیدآورنده: Lichtenberg, Allan j.
کتابخانه: کتابخانه مرکزی و مرکز اطلاع رسانی دانشگاه فردوسی مشهد (خراسان رضوی)
موضوع: ، Particles )Nuclear physics(
رده :
QC
721
.
L67
3. Phase-space dynamics of particles
پدیدآورنده: LICHTENBERG,ALLAN J
کتابخانه: کتابخانه مرکزی دانشگاه صنعتی امیرکبیر (تهران)
موضوع: PARTICLES )NUCLEAR PHYSICS(
رده :
QC
721
.
L67
4. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده: / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: کتابخانه مرکزی، مرکز اسناد و تامین منابع علمی دانشگاه صنعتی سهند (آذربایجان شرقی)
موضوع: Plasma dynamics,Thin films, Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry
رده :
QC718
.
5
.
D9L54
1994
5. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده: / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: کتابخانه مرکزی و مرکز اطلاع رسانی دانشگاه محقق اردبیلی ره (اردبیل)
موضوع: Plasma dynamics,Thin films, Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry, Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9L54
2005
6. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg.
موضوع : دینامیک پلاسما,لایه‌های نازک -- رویه‌ها,Plasma etching,Plasma chemistry -- Industrial applications
۲ نسخه از این کتاب در ۲ کتابخانه موجود است.
7. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده: / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: كتابخانه مركزی و مركز اسناد دانشگاه مازندران (مازندران)
موضوع: Plasma dynamics,Thin films- Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry- Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9
,
L54
2005
8. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده: / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: کتابخانه مرکزی، مرکز اسناد و تامین منابع علمی دانشگاه صنعتی سهند (آذربایجان شرقی)
موضوع: Plasma dynamics,Thin films- Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry- Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9L54
2005
9. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده: / Michael A. Lieberman and Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: کتابخانه پرديس 2 دانشکده‌های فنی دانشگاه تهران (تهران)
موضوع: Plasma dynamics,Thin films ــ Surfaces.,Plasma etching ــ Surfaces.,Plasma chemistry ــ Industrial applications.
رده :
QC
718
.
5
.
D9L54
2005
10. Regular and chaotic dynamics
پدیدآورنده: Lichtenberg, Allan J.
کتابخانه: کتابخانه مرکزی و مرکز اسناد دانشگاه شهید باهنر کرمان (کرمان)
موضوع: ، Nonlinear oscillations,، Stochastic processes,، Hamiltonian systems
رده :
QA
1
.
A647
v
.
38
1992
11. Regular and chaotic dynamics
پدیدآورنده: Lichtenberg, Allan J.
کتابخانه: كتابخانه مركزی دانشگاه صنعتی شریف (تهران)
موضوع: ، Nonlinear oscillations,، Stochastic processes,، Hamiltonian systems
رده :
QA
1
.
A647
vol
.
38
1992
12. Regular and chaotic dynamics
پدیدآورنده: Lichtenberg, Allan J.
کتابخانه: کتابخانه پژوهشگاه دانشهای بنیادی (تهران)
موضوع: ، Nonlinear oscillations,، Stochastic processes,، Hamiltonian systems
رده :
QA
867
.
5
.
L53
1992
13. Regular and chaotic dynamics
پدیدآورنده: Lichtenberg, Allan J.
کتابخانه: کتابخانه مرکزی و مرکز اطلاع رسانی دانشگاه فردوسی مشهد (خراسان رضوی)
موضوع: ، Nonlinear oscillators,، Stochastic processes,، Hamiltonian systems
رده :
QA
867
.
5
.
L53
1992
14. Regular and stochastic motion
پدیدآورنده: Lichtenberg, Allan J.
کتابخانه: کتابخانه مرکزی و مرکز اسناد دانشگاه شهید باهنر کرمان (کرمان)
موضوع: ، Nonlinear oscillations,، Stochastic processes,، Hamiltonian systems
رده :
QA
1
.
A647
v
.
38
15. Regular and stochastic motion
پدیدآورنده: Lichtenberg, Allan J.
کتابخانه: کتابخانه پژوهشگاه دانشهای بنیادی (تهران)
موضوع: ، Nonlinear oscillations,، Stochastic processes,، Hamiltonian systems
رده :
QA
867
.
5
.
L53
1983
16. Regular and stochastic motion
پدیدآورنده: Lichtenberg, Allan J.
کتابخانه: كتابخانه مركزی دانشگاه صنعتی شریف (تهران)
موضوع: ، Nonlinear oscillations,، Stochastic processes,، Hamiltonian systems
رده :
QA
1
.
A647
vol
.
38
